НАНОПОЛИРОВАНИЕ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ОПТИКИ И МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
DOI:
https://doi.org/10.20535/2305-9001.2016.76.67243Ключові слова:
полірування, монокристали, наночастинки, колоїдна система, шорсткістьАнотація
В результаті дослідження полірування монокристалічних матеріалів показано, що полірування плоских поверхонь оптоелектронних елементів з монокристалів карбіду кремнію доцільно здійснювати з використанням полірувальної суспензії порошків на основі МАХ-фази Ti3AlC2 та колоїдних систем наночастинок, а монокристалів сапфіру – за допомогою суспензії з алмазних мікропорошків, порошків кубічного нітриду бору та MAX-фази Ti3AlC2. Нанополірування поверхонь елементів монокристалів сапфіру слід здійснювати при використанні колоїдної системи наночастинок або традиційних складів на основі колоїдного двооксиду кремнію. Показано також, що продуктивність полірування монокристалів карбіду кремнію та сапфіру обернено пропорційна енергії переносу, максимальне значення якої відповідає мінімальній шорсткості.Посилання
Yaguo Li, Yongbo Wu, Jian Wang, Wei Yang, Yinbiao Guo, and Qiao Xu, (2012). Tentative investigation towards precision polishing of optical components with ultrasonically vibrating bound-abrasive pellets. Optics Express. Vol. 20. No. 1. pp. 568–258.
Yaguo Li, Yongbo Wu, Libo Zhou (2014) Masakazu Fujimoto, Vibration-assisted dry polishing of fused silica using a fixed-abrasive polisher. International Journal of Machine Tools and Manufacture. Vol. 77. pp. 93–102.
Ling Y., Low-Damage Grinding. Polishing of Silicon Carbide Surfaces, SIMTech Technical Report (PT/01/001/PM).
Filatov, Y.D., Filatov, O.Yu., Monteil G. et al. (2011), Bound-abrasive grinding and polishing of surfaces of optical materials. Optical Engineering, Vol. 50, Issue 6, pp. 063401–063401–7.
Filatov, O.Yu., Sidorko, V.I., Kovalev, S.V., Filatov, Y.D., Vetrov, A.G. (2016), Polishing substrates of single crystal silicon carbide and sapphire for optoelectronics. Functional materials. V. 23, No. 1, pp. 104–110.
Wang, Y., Liu, S., Peng, G., Zhou, S., Xu, J., (2005), ‘Effects of surface treatment on sapphire substrates’, Journal of Crystal Growth. Vol. 274. pp. 241–245.
Kadleikova M., Breza J., Vesely M. (2001), ‘Raman spectra of synthetic sapphire’. Microelectronics Journal, No. 32, pp.955–958.
Zhu, H., Tessaroto, L.A., Sabia, R., Greenhut, V.A., Smith, M., Niesz, D.E. (2004), Chemical mechanical polishing (CMP) anisotropy in sapphire. Applied Surface Science. V. 236, Issue 1–4, pp. 120–130.
Budnikov, A.T., Vovk, E.A., Krivonogov, S.I., Danko, A. Ya., Lukiyenko, O.A. (2010), Anisotropy of sapphire properties associated with chemical-mechanical polishing with silica. Functional Materials, Vol. 17, No. 4, pp. 488–494.
Vovk, E.A. (2015), Chemical-mechanical polishing of sapphire by polishing suspension based on aerosol. Functional Materials, Vol. 22, No. 2, pp. 252–257.
##submission.downloads##
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, яка дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
