ВПЛИВ РЕЖИМІВ УЛЬТРАЗВУКОВОГО ОЧИЩЕННЯ П‘ЄЗОЕЛЕКТРИЧНИХ ЕЛЕМЕНТІВ НА ЯКІСТЬ СФОРМОВАНИХ НА ЇХНІХ ПОВЕРХНЯХ СРІБНИХ ЕЛЕКТРОДІВ
DOI:
https://doi.org/10.20535/2305-9001.2012.64.44225Ключові слова:
п‘єзоелектрична кераміка, ультразвукове очищення, атомно-силова мікроскопіяАнотація
Розглянуто вплив режимів ультразвукового очищення поверхонь зразків п‘єзоелектричних елементів перед нанесенням на них срібних електродів методом термічного осадження у вакуумі. Експериментально встановлено зменшення відносної площі забруднень з 74% до 38% для поверхні зразків, очищених хіміко-механічним методом, тоді як зменшення відносної площі забруднення для поверхонь зразків, очищених ультразвуком становило від 56% до 12%. При цьому, відносна трещинуватість поверхонь зразків після хіміко-механічного очищення в промислових умовах залишилася на рівні початкових зразків, тоді як для зразків поверхня яких очищалася ультразвуком в середовищі спиртового розчину олеїнової кислоти відносна трещинуватість збільшилася з 3% до 53-58%. Показано, що основними параметрами, які здійснюють суттєвий вплив на якість поверхні, яка підлягає очищенню є час очищення та потужність ультразвукового генератора, значення яких обираються виходячи із значень частоти на якій відбувається процес очищення.Посилання
Sharapov V.M., Musienko M.P., Sharapova E.V. Pezokeramicheskie preobrazovateli fizicheskih velichin [Piezoceramics transformers of physical values]. Cherkassy: ChGTU, 2005, 595 p.
Sharapov V.M., Minaev I.G., Bondarenko Ju.Ju., Kisil' T.Ju., Musienko M.P., Rottje S.V., Chudaeva I.B. P'ezojelektricheskie preobrazovateli. Spravochnoe posobie [Piezoceramics transformers: Certificate manual]. Cherkassy: ChGTU, 2004, 435 p.
Balkevich V.L. Tehnicheskaja keramika [Technical ceramics]. Moscow: Strojizdat, 1984, 256 p.
Frolov V.A. Analiz i optimizacija v prikladnyh zadachah konstruirovanija RJeS [An analysis and optimization are in the applied tasks of constructing of relay electric charts], Kyiv: Vywa shkola, 1991, 310 p.
Feldman L., Majer D. Osnovy analiza poverhnosti i tonkih plenok [Bases of analysis of surface and thin-films], Moscow: Mir, 1989, 344 p.
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, яка дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.